Высоковакуумный магнетронный источник распыления

Источник имеет круглую распылительную головку для мишеней диаметром 50,8 мм и совместим с металлическими, изолирующими, магнитными и немагнитными мишенями. Круглый редкоземельный постоянный магнит обеспечивает равномерность плёнки и использование до 30 % материала мишени. Головка наклоняется на ±25° для регулировки угла падения частиц и повышения эффективности распыления. Конструкция выполнена из нержавеющей стали и керамики. Магнитный узел спроектирован с применением электромагнитного расчёта методом конечных элементов для получения высокой напряжённости и равномерного профиля поля; магнит имеет защитное покрытие от коррозии охлаждающей водой. Источник работает с питанием постоянного тока или радиочастотным питанием; максимальная мощность составляет 500 Вт при постоянном токе и 300 Вт при радиочастотном питании, максимальный ток распыления — 5 А. Стандартный радиочастотный соединитель совместим с источниками постоянного и радиочастотного питания, а низкоимпедансная головка подключается к внешнему источнику. Комплектный быстросъёмный соединитель упрощает установку стандартного фитинга. Замена мишени не требует подстройки под её высоту. Медная опорная пластина размером 50,8 мм входит в комплект. Рабочее напряжение распыления составляет от 200 до 1000 В, давление — от 1 до 1000 мТорр. Диаметр анодного экрана — 86 мм. Толщина мишени допускается до 6,35 мм для немагнитных и до 1,5875 мм для магнитных материалов. Для охлаждения требуется фильтрованная вода с расходом 3,0283 л/мин и температурой на входе ниже 20 °C; используется водяная трубка диаметром 6 мм с быстросъёмным соединением. Проходная трубка имеет наружный диаметр 19,05 мм. Масса источника составляет 1,5876 кг. В комплект входит быстросъёмный соединитель с внутренним диаметром 19,05 мм для крепления источника на опорной плите вакуумной камеры толщиной до 25,4 мм со сквозным отверстием диаметром 25,4 мм.

Наименование производителя

2" High Vacuum Magnetron Sputtering Gun with Flexible Head & Quick Connector for PVD Thin Film Deposition Sputter Source