Артикул: 516-169 Модель: СВЕ-17(5Ж) Секция: Дополнительная

Компактный источник питания для магнетронного распыления

Источник питания предназначен прежде всего для источника магнетронного распыления. Эффективность устройства превышает 90 %, а уровень запасённой энергии на выходе остаётся низким. Встроенная схема подавляет дуговой разряд в процессах, чувствительных к дуге, и управляет дугой при продолжительных дуговых процессах. Органы управления на передней панели позволяют выбирать регулирование по постоянной мощности, току или напряжению. Мощность можно плавно доводить до заданного значения. Максимальная выходная мощность составляет 500 Вт, максимальный выходной ток — 0,8 А. Разрешение по напряжению равно 1,0 В, разрешение по току — 1 мА, точность управления — +1 %. Выход оснащён гнездовым разъёмом. Дополнительно можно заказать высоковакуумный источник магнетронного распыления размером 50,8 мм. Быстросъёмный высоковакуумный соединитель с внутренним диаметром 19,05 мм предназначен для установки распылительного инструмента на опорную плиту вакуумной камеры толщиной до 25,4 мм со сквозным отверстием диаметром 25,4 мм.
Наименование производителя2025 Hot Sale High Stability 500W DC Sputtering Power Supply with Optional Magnetron Head for Lab Thin Film Deposition DC-500-LD, 1000W 27.12MHz RF Power Supply with Auto Matcher for Laboratory & Industrial Heating Applications
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает источник питания для магнетронного распыления

Источник питания для магнетронного распыления используют в лабораторных процессах нанесения тонких плёнок.

Характеристики СВЕ-17(5Ж)

Модель (по базе 91Т)СВЕ-17(5Ж)
Входпеременный ток 220 В, ±10%
Размерширина 440 мм × высота 85 мм × глубина 403 мм; 88 × 442 × 514 мм
Источник питания для магнетронного распыления - гибкость поставки.
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации СВЕ-17(5Ж) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).

Дата последней проверки актуальности данных: 26.09.26

Данные о производителе и характеристиках проверены.

Люди, которые искали Источник питания для магнетронного распыления, также смотрели:

Реактор для расплавленных солей с подвижными электродами+3 фото

Реактор для расплавленных солей с подвижными электродами

Модель: ЕЖЛ-74(1Ж)
Максимальная рабочая температура реактора составляет 1200 °C, скорость нагрева не превышает 20 °C/мин.
Небольшая система туманообразующего распыления+5 фото

Небольшая система туманообразующего распыления

Модель: КУХ-25(5Е)
Система использует насосный тип распылителя и имеет низкий уровень шума.
Трёхмерный волоконный лазерный станок для резки металла с ЧПУ, 6-осевой, точность траектории ±0,53 мм+2 фото

Трёхмерный волоконный лазерный станок для резки металла с ЧПУ, 6-осевой, точность траектории ±0,53 мм

Модель: ПЛУ-92(1Я)
Трёхмерный волоконный лазерный станок для резки металла выполнен на базе режущей головки, высокоточной ёмкостной системы слежения, волоконного лазера и промышленной роботизированной системы. Шесть осей подачи обеспечивают обработку заготовок нестандартной формы и резку с разных направлений в диапазо
Программируемая установка для нанесения покрытий погружением+1 фото

Программируемая установка для нанесения покрытий погружением

Модель: ЯКП-27(9Б)
Программируемая установка для нанесения покрытий погружением работает со скоростью погружения от 1 до 500 мкм/с и оснащена сушильным шкафом с температурой до 100 °C. Габаритные размеры составляют 440 × 460 × 1040 мм.