Установка для ВЧ-плазменного магнетронного напыления с тремя головками размером 25,4 мм

Поворотный переключатель активирует одну распылительную головку за раз и позволяет менять головку в плазме без нарушения вакуума. Поддерживаются конфигурации: три канала постоянного тока; один радиочастотный и два канала постоянного тока; два радиочастотных и один канал постоянного тока. Источник работает на частоте 13,56 МГц и имеет мощность 100 Вт, ручное согласование, регулируемую нагрузку 0–80 и диапазон настройки от −200j до 200j. Непрерывная работа рассчитана на 1 час при 100 Вт, 1,5 часа при 80 Вт, 2 часа при 70 Вт, 4 часа при 60 Вт и 8 часов при 50 Вт. Доступен источник постоянного тока мощностью 500 Вт, а также радиочастотный генератор мощностью 300 Вт с автоматическим согласованием. Распылительные головки оснащены водяными охлаждающими рубашками и устанавливаются быстрозажимными соединениями. На фланце установлен ручной затвор, в комплект входит рециркуляционный водяной охладитель с расходом 10 л/мин. Максимальный размер мишени составляет 25,4 мм в диаметре и 3,175 мм по толщине; расстояние напыления регулируется в пределах 50–80 мм, угол напыления — 0–25°. В комплект входят медная мишень, мишень из оксида алюминия и медные опорные пластины толщиной 1 и 2 мм. Камера из высокочистого кварца имеет наружный диаметр 256 мм, внутренний диаметр 238 мм и высоту 276 мм. Уплотнительный алюминиевый фланец диаметром 274 мм оснащён термостойким силиконовым кольцом, предусмотрена защитная клетка из нержавеющей стали для экранирования радиочастотного излучения. Поворотный нагреваемый столик с керамическим нагревателем и крышкой из нержавеющей стали поддерживает скорость вращения 1–10 об/мин и температуру от комнатной до 600 °C; при 600 °C работа ограничена 5 минутами, при 500 °C — 2 часами, точность регулирования составляет ±1,0 °C. Вакуумная система обеспечивает уровень 1,0E-2 торр с комплектным двухступенчатым механическим насосом и 1,0E-5 торр с опциональным турбонасосом. Для подачи газа требуется двухступенчатый регулятор давления с ограничением выходного давления ниже 0,02 МПа и аргон чистотой выше 5N. Подложки очищают ультразвуком в ацетоне и изопропиловом спирте, сушат азотом и вакуумируют для удаления влаги; для активации поверхности рекомендуется плазменная очистка.

Наименование производителя

3 Heads 1" RF Plasma Magnetron Sputtering Coater with DC Option - Thin Film Deposition Machine VTC-3RF