Артикул: 513-984 Модель: АБХ-41(9Р) Секция: Дополнительная

Вакуумная установка для центрифужного нанесения покрытий для подложек диаметром 45–200 мм

Скорость установки регулируется с помощью преобразования частоты, а светодиодный цифровой дисплей отображает рабочие значения. Номинальное напряжение составляет около 380 В. Процесс центрифужного нанесения включает две ступени: на первой скорость составляет 500–2000 об/мин, на второй — 2000–5000 об/мин. Время первой ступени настраивается в пределах 0–18 с при максимальном значении 60 с, а второй — 0–60 с при максимальном значении 180 с. Стабильность скорости составляет ±1 %, равномерность нанесения — ±5 %. Габариты с лотком для клея равны 425 × 500 × 300 мм, без лотка — 425 × 500 × 190 мм.
Наименование производителяCompact Vacuum Spin Coater System (5000rpm, 8" Wafer) | Precision Photoresist Coating with Pump-KW-5, Lab 12" Wafer Vacuum Spin Coater for Photoresist, Max 5000 RPM
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает вакуумная установка для центрифужного нанесения покрытий

Вакуумная установка для центрифужного нанесения покрытий применяется для нанесения жидких и коллоидных материалов на кремниевые пластины, кристаллы, кварцевые и керамические подложки с формированием тонких плёнок, нанесения фоторезиста, подготовки биологических сред и получения полимерных плёнок методом золь-гель.
Нанесение покрытий

Характеристики АБХ-41(9Р)

Модель (по базе 91Т)АБХ-41(9Р)
Грузоподъёмность45–200 мм
Материалвакуумная установка для центрифужного нанесения покрытий, установка для центрифужного нанесения покрытий
Размер425 мм × 500 мм × 300 мм, 980 мм × 855 мм × 855 мм
Вакуумная установка для центрифужного нанесения покрытий - гибкость поставки.
Мы понимаем, что каждый проект уникален. Поэтому по запросу мы готовы рассмотреть настройку технических параметров, типоразмеров и комплектации АБХ-41(9Р) под конкретные задачи (силами завода-изготовителя или нашего предприятия в России).

Дата последней проверки актуальности информации: 06.10.26

Производитель и технические характеристики подтверждены.

Люди, которые искали Вакуумная установка для центрифужного нанесения покрытий, также смотрели:

Установка для нанесения плёночных покрытий+3 фото

Установка для нанесения плёночных покрытий

Модель: ЭДЭ-57(5М)
Установка автоматически наносит плёночные покрытия равномерной толщины с помощью аппликаторов с микрометрической регулировкой или аппликаторов фиксированной толщины. Система перемещения обеспечивает плавное нанесение материалов всех типов. Отверстия малого размера в рабочем столе удерживают лист под
Высокоточный анализатор хемосорбции+2 фото

Высокоточный анализатор хемосорбции

Модель: ФГЮ-57(5Ш)
Анализатор оснащён параллельной схемой потоков с обходным каналом на испытательном порте, который защищает ячейку теплопроводности от загрязнения при обработке образца; стабильность работы позволяет регистрировать пики с амплитудой от 500 мкВ, а скорость разогрева 5 °С/мин обеспечивает линейность. Р
Высокоточная лабораторная установка для нанесения тонких плёнок+4 фото

Высокоточная лабораторная установка для нанесения тонких плёнок

Модель: ДБЭ-72(8Ж)
Установка для нанесения покрытий методом центрифугирования использует бесступенчатое регулирование скорости и цифровую установку времени вращения. Двухэтапный процесс включает низкоскоростное распределение материала и высокоскоростное выравнивание покрытия. Максимальная скорость вращения достигает 1
Гидротермальный лабораторный реактор+1 фото

Гидротермальный лабораторный реактор

Модель: ЛФИ-24(7В)
Гидротермальный реактор выполнен из суперсплава на основе никеля, обладающего высокой прочностью при ползучести и стойкостью к окислению. Сосуд рассчитан на работу при температурах от комнатной до 1100 °C; доступны варианты вместимостью 65 и 100 мл. При использовании кислорода или инертного газа раб