Вакуумная установка магнетронного распыления

Установка представляет собой систему магнетронного распыления с двумя головками, рассчитанными на мишени диаметром 50,8 мм и толщиной от 0,1 до 5 мм. Одна головка подключена к источнику постоянного тока мощностью 500 Вт для металлических материалов, другая — к радиочастотному источнику мощностью 300 Вт с частотой 13,56 МГц для непроводящих материалов. Головки оснащены водоохлаждаемыми рубашками и шторками. Система рассчитана на нанесение одного или нескольких слоёв на сплавы, сегнетоэлектрики, полупроводники, керамику, диэлектрики, оптические материалы и ПТФЭ. Входная мощность составляет 2000 Вт с учётом вакуумного насоса и водяного охладителя. Вакуумная камера из нержавеющей стали имеет диаметр 300 мм и высоту 300 мм. Она снабжена двумя стеклянными смотровыми окнами диаметром 100 мм: одно закреплено, второе снимается для очистки и замены. Шарнирная крышка оснащена пневматической стойкой для смены мишеней. Держатель образца выполнен в виде вращаемого и нагреваемого столика с керамическим нагревателем и медной крышкой. Его диаметр составляет 140 мм, максимальный размер пластины — 101,6 мм. Скорость вращения регулируется от 1 до 20 об/мин, температура — от комнатной до 500 °C, точность поддержания составляет ±1,0 °C, а работа при предельной температуре допускается до 2 ч. Температура задаётся цифровым контроллером. Два прецизионных массовых расходомера обеспечивают подачу двух типов газа с регулируемым расходом от 0 до 200 мл/мин через сенсорную панель. Воздушный впускной клапан служит для сброса вакуума. Мобильная насосная станция с пластинчато-роторным насосом входит в комплект, а установку можно разместить сверху станции. Для мишеней, чувствительных к кислороду, необходим высокий вакуум. В комплект также входит цифровой рециркуляционный водяной охладитель с диапазоном охлаждения 5–35 °C, расходом 16 л/мин и давлением насоса 0,965 бар. Опциональный кварцевый монитор толщины плёнки выполняет измерение непосредственно в процессе нанесения с точностью до 1 ангстрема. Габариты при закрытой крышке составляют 1219,2 × 711,2 × 812,8 мм, при открытой — 1219,2 × 711,2 × 939,8 мм; масса установки — 160 кг.

Наименование производителя

DC/RF Dual Head 2 Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater with High Vacuum System for Thin Film Deposition Research, Lab Dual-Head Plasma Sputtering Coater for Sample Metal Coating and Thin-Film Deposition