Артикул: 516-994
Модель: УРВ-19(5Б)
Секция: Дополнительная
Настольная установка для высокомощного магнетронного распыления постоянного тока
Установка оснащена кварцевой вакуумной камерой в виде стеклянной трубки с наружным диаметром 165 мм, внутренним диаметром 150 мм и высотой 250 мм. Гибкая распылительная головка имеет водяное охлаждение; допустимая толщина мишени составляет до 6,35 мм для немагнитных и до 1,5875 мм для магнитных материалов. Столик образца из нержавеющей стали рассчитан на вращение со скоростью 0–5 об/мин, а расстояние между головкой и столиком регулируется в диапазоне 60–100 мм. Ручной затвор предназначен для защиты мишени. В комплект входят чиллер рециркуляции с расходом 10 л/мин и медная мишень диаметром 50,8 мм и толщиной 2,5 мм. Панель управления с сенсорным экраном диагональю 152,4 мм и интеграцией ПЛК контролирует вакуум, ток и параметры процесса. Встроенный вакуумный порт подключается к системе откачки; для подачи аргона предусмотрен игольчатый клапан. Для работы требуется баллон с аргоном и регулятор давления. Масса установки составляет 20 кг.
Задать вопрос Искать на Baidu
Какую задачу решает установка для магнетронного распыления
Установка для магнетронного распыления предназначена для нанесения пленочных покрытий на пластины диаметром до 101,6 мм, включая цинковые, алюминиевые и титановые покрытия, а также светлые углеродные пленки.
Характеристики УРВ-19(5Б)
Модель (по базе 91Т)УРВ-19(5Б)
Материалустановка для магнетронного распыления постоянного тока
Размер460 мм (длина) × 360 мм (ширина) × 710 мм (высота)
Установка для магнетронного распыления - гибкость поставки.
Нам известно, что каждый проект имеет свою специфику. Поэтому мы готовы рассмотреть адаптацию технических характеристик, типоразмеров и комплектации УРВ-19(5Б) под ваши конкретные условия (силами исходного производителя либо нашего производства в России).
Нам известно, что каждый проект имеет свою специфику. Поэтому мы готовы рассмотреть адаптацию технических характеристик, типоразмеров и комплектации УРВ-19(5Б) под ваши конкретные условия (силами исходного производителя либо нашего производства в России).
Данные проверены на актуальность: 26.09.26
Информация о производителе и характеристиках подтверждена.
Люди, которые искали Установка для магнетронного распыления, также смотрели:
Портативный ранцевый аппарат с импульсным волоконным лазером для очистки металла мощностью 100 Вт
Модель: ШМЭ-77(9К)
Портативный ранцевый аппарат оснащён импульсным волоконным лазером и предназначен для удаления ржавчины с металлических поверхностей на высоте. Скорость очистки составляет 5–15 м²/ч, ширина очистки — 185 × 185 мм. Мощность лазера: 100, 200 или 300 Вт. Для обработки подходят нержавеющая и углеродиста
Цифровая лабораторная водяная баня с магнитным перемешиванием
Модель: АШГ-48(9Э)
Лабораторная водяная баня имеет размер 200 × 200 × 200 мм. Доступны варианты мощности 800 Вт, 1000 Вт, 1200 Вт и 600 Вт.
+3 фотоЛабораторный концентратор с цифровым дисплеем
Модель: СНА-94(8П)
Лабораторный концентратор выпускается в вариантах на 12 или 24 позиции для образцов; диаметр каждого отверстия составляет 16 мм. Таймер настраивается в диапазоне от 0 до 99 ч 59 мин. Температурный режим охватывает диапазон от комнатной температуры плюс 5 °C до 160,0 °C; разрешение отображения темпер
+4 фотоВысоковольтный источник питания для лабораторного электроформования
Модель: ДХА-92(4М)
Высоковольтный источник питания предназначен для работы с устройством электроформования в лабораторной системе. Выход выполнен как один канал постоянного напряжения с диапазоном 0–50 кВ. На передней панели расположены регуляторы, с помощью которых устанавливаются выходные напряжение и ток; текущие з