Лабораторный вакуумный очиститель плазмы, вместимость 2 л, частота 40 кГц, мощность 300 Вт — Лабораторное сушильное оборудование
Лабораторный вакуумный очиститель плазмы, вместимость 2 л, частота 40 кГц, мощность 300 ВтЛабораторный вакуумный очиститель плазмы, вместимость 2 л, частота 40 кГц, мощность 300 ВтЛабораторный вакуумный очиститель плазмы, вместимость 2 л, частота 40 кГц, мощность 300 ВтЛабораторный вакуумный очиститель плазмы, вместимость 2 л, частота 40 кГц, мощность 300 ВтЛабораторный вакуумный очиститель плазмы, вместимость 2 л, частота 40 кГц, мощность 300 ВтЛабораторный вакуумный очиститель плазмы, вместимость 2 л, частота 40 кГц, мощность 300 Вт
Пожаловаться на изображение / Report image misuse
Артикул: 527-201 Модель: ЛХЯ-82(5Ю) Секция: Дополнительная

Лабораторный вакуумный очиститель плазмы, вместимость 2 л, частота 40 кГц, мощность 300 Вт

Лабораторный вакуумный очиститель плазмы работает с воздухом, кислородом, азотом и аргоном. Группа электродов подключена к радиочастотному источнику питания; между электродами формируется высокочастотное переменное электрическое поле, которое возбуждает газ и образует плазму. Активная плазма воздействует на поверхность физическим бомбардированием и химической реакцией. Материал поверхностного слоя переходит в частицы и газообразные вещества, удаляемые вакуумированием. Такая обработка может активировать поверхность, повышать адгезию и увеличивать прочность сварного соединения. Остатки фоторезиста, смол, растворов и другие органические загрязнения удаляются за короткое время воздействия. Рабочее давление составляет 10–30 Па, расход газа регулируется в диапазоне 10–160 мл/мин. Характеристическое сопротивление равно 50 Ом, согласование выполняется автоматически, а частотное отклонение не превышает 0,2 кГц. Управление осуществляется микроконтроллером в автоматическом или ручном режиме. Время процесса регулируется от 1 до 100 минут, диапазон регулировки мощности составляет 10–100%. Рабочий ток всей установки без вакуумных насосов не превышает 1,2 А. Камера изготовлена из нержавеющей стали, ее диаметр составляет 100 мм, длина — 270 мм. Температура камеры ниже 65 °C, охлаждение принудительное воздушное. Габариты установки составляют 400×450×250 мм, масса — 36,5 кг.
Наименование производителяLaboratory 2L 40KHz 300W Plasma Cleaner for Plasma Cleaning, Etching, Surface Treatment with air , O2, N2, Ar
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает очиститель плазмы

Очиститель плазмы применяют для предварительной обработки поверхностей перед склеиванием, печатью, скреплением и сваркой, а также для обработки жидкокристаллических и светодиодных дисплеев, микросхем и плоскопанельных дисплеев.

Характеристики ЛХЯ-82(5Ю)

Модель (по базе 91Т)ЛХЯ-82(5Ю)
Материалочиститель плазмы
Привод300 Вт
Размер400×450×250 мм
Типочиститель плазмы
Очиститель плазмы - гибкость поставки.
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации ЛХЯ-82(5Ю) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).

Дата последней сверки данных: 27.09.26

Производитель и характеристики проверены.

Люди, которые искали Очиститель плазмы, также смотрели:

Прецизионный станок с ЧПУ+4 фото

Прецизионный станок с ЧПУ

Модель: ЛЮР-19(7Я)
Диаметр цилиндрического образца или круглой пластины составляет от 3 до 30 мм, максимальная толщина материала — 50 мм. По оси Z предусмотрено автоматическое перемещение под управлением ЧПУ до 100 мм при резке; настройка по оси Y выполняется вручную в пределах 80 мм, по оси X — 100 мм. Разрешение пер
Программируемая установка для нанесения покрытий центрифугированием, 500–6000 об/мин, для образцов диаметром до 203,2 мм, с опциональной нагревательной крышкой+5 фото

Программируемая установка для нанесения покрытий центрифугированием, 500–6000 об/мин, для образцов диаметром до 203,2 мм, с опциональной нагревательной крышкой

Модель: УЛП-45(2Д)
Образец фиксируется на планшете методом вакуумной адсорбции. Доступна двухступенчатая программа работы с этапами T1 и T2; время каждого этапа устанавливается в диапазоне от 1 до 600 с, а стабильность скорости вращения составляет ±1 %, что обеспечивает более равномерное нанесение покрытия. Мощность о
Диафрагменный вакуумный насос+1 фото

Диафрагменный вакуумный насос

Модель: ХБЯ-75(8М)
Насос представляет собой двухступенчатый компрессор для создания вакуума, работающий по принципу объемного вытеснения. Периодическое изменение объема камеры всасывания формирует поток газа, который автоматически открывает и закрывает клапаны. Насосный блок непосредственно соединен с приводным двигат
Фланцевая трубка из нержавеющей стали+2 фото

Фланцевая трубка из нержавеющей стали

Модель: ЮПЮ-54(9И)
Фланцевая трубка имеет диаметр 80 мм и длину 460 мм.