Артикул: 514-725
Модель: ВБЭ-79(5Т)
Секция: Дополнительная
Лабораторная вакуумная печь с вращающимся держателем для полупроводниковых пластин
Лабораторная вакуумная печь имеет вакуумную камеру из нержавеющей стали с внутренним диаметром 500 мм и высотой 460 мм. Максимальная рабочая температура составляет 950 °C. Верхний и нижний инфракрасные нагреватели управляются раздельно; расстояние между ними регулируется в диапазоне 2–25 мм. Вращающийся держатель для полупроводниковой пластины рассчитан на диаметр 304,8 мм, а его скорость регулируется от 1 до 10 об/мин. Два кварцевых окна диаметром 60 мм обеспечивают наблюдение за процессом. Герметичная сдвижная заслонка перекрывает источник испарения при высоком вакууме. Турбонасос обеспечивает вакуум до 10⁻⁵ торр, механический насос — до 10⁻² торр. Нагреватели изготовлены из нержавеющей стали, оснащены водоохлаждаемыми рубашками и графитовыми пластинами для выравнивания нагрева. В комплект входит циркуляционный охладитель с расходом 58 л/мин. Система управления включает два цифровых регулятора температуры с программированием на 24 сегмента и точностью ±0,1 °C, сенсорный компьютер и программируемый логический контроллер. Сенсорный компьютер управляет температурными профилями, вакуумным давлением и подъёмом фланца; предусмотрено 10 предварительно заданных программ. Допустимая разность температур между нагревателями составляет не более 300 °C.
Задать вопрос Искать на Baidu
Какую задачу решает лабораторная вакуумная печь
Лабораторная вакуумная печь используется для нанесения плёночных покрытий на полупроводниковые пластины, их отжига и исследования тонких плёнок для сульфидных и перовскитных солнечных элементов.
Характеристики ВБЭ-79(5Т)
Модель (по базе 91Т)ВБЭ-79(5Т)
Максимальная температура650
Номинальная мощность400–550 кВт
Лабораторная вакуумная печь - гибкость поставки.
Мы знаем, что задачи каждого проекта отличаются. Поэтому по вашему запросу мы готовы рассмотреть возможность адаптации технических характеристик, типоразмеров и комплектации ВБЭ-79(5Т) под конкретные условия применения (силами первого производителя или силами нашего завода в России).
Мы знаем, что задачи каждого проекта отличаются. Поэтому по вашему запросу мы готовы рассмотреть возможность адаптации технических характеристик, типоразмеров и комплектации ВБЭ-79(5Т) под конкретные условия применения (силами первого производителя или силами нашего завода в России).
Дата актуализации информации: 08.10.26
Производитель и параметры оборудования проверены.
Люди, которые искали Лабораторная вакуумная печь, также смотрели:
+4 фотоМини-кран-паук грузоподъёмностью 3 т на гусеничном ходу
Модель: ЕХГ-48(5И)
Мини-кран-паук оснащён телескопической стрелой с несколькими секциями. Высота подъёма регулируется, а управление осуществляется дистанционно по беспроводному каналу. Конструкция рассчитана на работу на сложных площадках и при выполнении высотных операций.
+5 фотоНастольная рулонная система нанесения покрытия на электрод
Модель: ЯГА-81(1Х)
Оборудование оснащено нагревательной платформой и горячим вальцовым прессом; максимальная температура составляет 200 °C, номинальная мощность — 1600 Вт и 1 кВт.
+3 фотоЛабораторная высокоточная установка для нанесения покрытий на образцы СЭМ
Модель: ЮГТ-97(9Б)
Лабораторная установка оснащена приставкой, которая выполняет плазменное напыление металлических плёнок и термическое испарение углерода и других металлов; возможна работа с углеродными нитями, алюминием и нержавеющей сталью. Диаметры мишени и столика для образцов составляют по 50 мм, вакуумная каме
+5 фотоСистема плазмохимического осаждения в трубчатой печи с 4-канальным контроллером массового расхода газа
Модель: ПСА-87(4П)
Система включает радиочастотный плазменный источник мощностью 300 Вт, трубчатую печь с разрезной камерой наружным диаметром 80 мм и длиной 440 мм, газовый смесительный узел и механический вакуумный насос. Максимальная температура нагрева составляет 1200 °C, непрерывная рабочая температура — 200–1100