Лабораторная установка для испарительного нанесения тонких покрытий

Установка выполнена с кварцевой камерой наружным диаметром 280 мм, внутренним диаметром 260 мм и высотой 310 мм, предназначенной для очистки и загрузки образцов. На верхнем фланце смонтирован вращающийся держатель образца с заслонкой; его скорость составляет 5 об/мин, а расстояние до источника испарения регулируется в диапазоне 40–85 мм. В рабочем узле установлены четыре алюмооксидных испарительных тигля вместимостью по 3 мл. В нижней части тиглей размещены вольфрамовые спиральные нагреватели с термопарами; четыре термопары типа S обеспечивают нагрев от 200 до 1500 °C. Опциональная термопара типа B расширяет диапазон до 1200–1700 °C. Цифровой контроллер температуры поддерживает 30 программируемых сегментов и точность ±1 °C. Рекомендуемая скорость нагрева или охлаждения ниже 1200 °C составляет не более 0,3 °C/с, а в диапазоне 1200–1700 °C — не более 0,15 °C/с. Вакуумный порт служит для подключения насоса; при использовании опционального турбомолекулярного насоса достигается вакуум менее 1,0E-5 Торр. Встроенные газовый порт и игольчатый клапан предназначены для продувки камеры и регулирования расхода газа.

Наименование производителя

MGSI Laboratory Evaporating Coater for 2" Wafer with 4 AC Power Adapter Included Model AC-GSL-1700X-EV4, MGSI SrRuO3 Target >99.9% Purity 2" Dia X 0.25" Thickness 110-220V AC Power Adapter Included, MGSI High Vacuum Magnetron Sputtering System Thin Film Deposition PVD Coating Machine Laboratory Drying