Артикул: 507-673 Модель: ДПЯ-14(8Е) Секция: Дополнительная

Трёхголовочная установка магнетронного распыления

Установка оснащена мишенными пушками и предназначена для нанесения покрытий методом совместного или последовательного распыления. Вакуумная камера выполнена из нержавеющей стали, её размеры составляют 300 мм в диаметре и 300 мм по высоте. Мишени имеют диаметр 50,8 мм и толщину от 0,1 до 5 мм. Мишенные головки охлаждаются водой и оснащены заслонками. Поворотный нагреваемый держатель образца диаметром 140 мм обеспечивает вращение со скоростью от 1 до 20 об/мин; температура держателя регулируется от комнатной температуры до 500 °C с точностью ±1 °C. Два контроллера массового расхода регулируют подачу двух газов в диапазонах 0–200 и 0–100 мл/мин. Модульная конструкция допускает раздельное размещение камеры, вакуумной насосной группы и блока управления. В состав стандартной комплектации входят водоохладитель, молекулярный насос и система контроля толщины плёнки. Габариты основной машины — 500 × 560 × 660 мм, общие габариты — 1300 × 660 × 1200 мм, масса — 160 кг.
Наименование производителяTriple-Source Plasma Magnetron Sputtering Coater for Single-layer or Multi-layer Ferroelectric Film VTC-600-3HD, Laboratory Magnetron Sputtering Coater with 3 Sputtering Sources RF/DC Power Supply for Lab Thin Film Deposition, Single Head High-Vacuum Magnetron Plasma Sputtering Coater for Precise Film Deposition VTC-600-1HD, Three-Target Plasma Magnetron Sputter Coater Lab Sputtering Machine DC Sputtering for Conductive Materials RF Sputtering, Lab Three-Target DC and RF Magnetron Sputtering System for ITO Glass Thin Film Deposition - MG-VTC-600-3HD, DC/RF Dual-Head High Vacuum 2-inch Magnetron Plasma Sputtering Coater - MG-VTC-600-2HD for Advanced Coating Applications, Laboratory 2-in-1 Thin Film Coater Magnetrons Sputtering Thermal Evaporation VTC-1RF-SPC Drying Equipment, Laboratory 3 Heads RF/DC Plasma Sputtering Coater for Powders with 1 PPM Gas Purification System - VTC-3HD-VP, Plasma Magnetron Sputtering Coater with Three Sputtering Sources and RF/DC Power Supplies - VTC-600-3HD-LD, Laboratory Plasma Magnetron Sputtering Coater with Three DC Sputtering Targets and Power Supplies VTC-600-3HD-LD
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает установка магнетронного распыления

Установка магнетронного распыления применяется в лабораторных работах для получения однослойных и многослойных ферроэлектрических, проводящих, сплавных, полупроводниковых, керамических, диэлектрических, оптических, оксидных, твёрдых и политетрафторэтиленовых покрытий.

Характеристики ДПЯ-14(8Е)

Модель (по базе 91Т)ДПЯ-14(8Е)
Грузоподъёмностьустановка магнетронного распыления, 300 мм, прецизионная лабораторная установка распыления
Материалплазменная установка магнетронного распыления, трёхголовочная вакуумная система распыления, система магнетронного распыления с тремя мишенями постоянного и высокочастотного тока, высоковакуумная плазменная установка магнетронного распыления, установка магнетронного распыления, установка распыления
Размер500 мм × 560 мм × 660 мм, 1300 мм × 660 мм × 1200 мм, уточняется
Установка магнетронного распыления - гибкость поставки.
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации ДПЯ-14(8Е) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).

Дата последней проверки актуальности данных: 25.09.26

Данные о производителе и характеристиках проверены.

Люди, которые искали Установка магнетронного распыления, также смотрели:

Станок для лазерной резки труб из нержавеющей стали+2 фото

Станок для лазерной резки труб из нержавеющей стали

Модель: ЭНЭ-44(9Л)
Полуавтоматическое оборудование обеспечивает высокоточную обработку труб.
Бетоносмесительный насос с мощностью смешивания 52 кВт

Бетоносмесительный насос с мощностью смешивания 52 кВт

Модель: КЯВ-14(7С)
Бетоносмесительный насос характеризуется производительностью 11 м³/ч и высоким моментом нагрузки.
Стационарный ножничный подъёмник с высотой подъёма 10, 14, 16 или 20 м+5 фото

Стационарный ножничный подъёмник с высотой подъёма 10, 14, 16 или 20 м

Модель: СШЕ-28(2Е)
Стационарный ножничный подъёмник выпускается в исполнениях с высотой подъёма 10, 14, 16 и 20 м. Подъёмник предназначен для высотных операций при монтаже, ремонте и очистке оборудования, расположенного на высоте, энергетического оборудования и трубопроводов, проложенных над рабочей зоной. Он применяе
Станок для холодной гибки с минимальным радиусом гибки 2 м+5 фото

Станок для холодной гибки с минимальным радиусом гибки 2 м

Модель: ФЯТ-47(2С)
Станок для холодной гибки работает в полуавтоматическом режиме и отличается простым управлением. Оборудование выполнено как встроенная цельная машина, что облегчает его транспортировку и установку. Для станка предоставляется отчёт об испытаниях оборудования, также может быть предоставлена видеозапис