Программируемая вакуумная установка центрифужного нанесения покрытий

Вакуумная установка центрифужного нанесения покрытий оснащена откидной верхней крышкой с замком безопасности и защитой при открытой крышке. Покрывающий состав подаётся на первой ступени программы при низкой скорости, а на второй ступени при высокой скорости выравнивается. Образец удерживается вакуумной адсорбцией. Установка имеет литую алюминиевую конструкцию, стабильную работу и низкий уровень шума. Управление скоростью выполняется однокристальным контроллером; диапазон вращения составляет 500–8000 об/мин, стабильность скорости — ±1 %. Предусмотрена функция обратного отсчёта. Поверхность вакуумного держателя расположена ниже камеры, что предотвращает выброс подложки при недостаточной фиксации и снижает риск травмирования оператора. Диаметр пластины составляет 100 мм, вращение выполняется против часовой стрелки. В комплект входят вакуумные держатели из ПП диаметром 25, 50 и 100 мм, шприц и безмасляный вакуумный насос. Размеры установки — 260 × 380 × 300 мм, масса — 20 кг. Для эксплуатации требуется рабочая поверхность 600 × 600 × 700 мм с нагрузкой более 50 кг, вентиляция, подключение воды на вход и выход, электропитание 50 Гц и надёжное заземление. Допустимые условия эксплуатации: высота до 1000 м, температура 25 °C ± 15 °C и относительная влажность 55 % ± 10 %.

Наименование производителя

VTC-100B Compact Vacuum Spin Coater 8,000 RPM 4-Inch Wafer Programmable Thin Film Coating Machine, Compact Vacuum Spin Coater 8000RPM with Oilless Pump for 4 Inch Wafer Thin Film Coating and Laboratory Research VTC-100B, Vacuum Spin Coater VTC-100B | 8K RPM Wafer Coating System for 2-4 Inch Substrates, Photoresist & Polymer Film, 2025 Hot Sale Programmable Spin Coater (Max 8000 RPM): 4 Inch Wafer Coating Equipment for Flexible Displays Laboratory